应用原理:溅射是一种先进的薄膜材料制备技术,它利用离子源产生的离子,在真空中加速聚集成高速离子流,轰击固体表面,离子和固体表面的原子发生动能交换,使固体表面的原子离开靶材并沉积在基材表面,从而形成纳米或微米薄膜。上述用溅射法沉积薄膜的被轰击的固体,称为溅射靶材。
应用领域:纯钼或钼合金可以在各类基材上形成薄膜。因此广泛应用于电子及信息产业。如目前广泛应用的TFT-LCD(薄膜半导体管-液晶显示器)、等离子显示屏、无机发光二极管显示器、场发射显示器、薄膜太阳能光伏电池、传感器、半导体装置和具有可调谐功函数CMOS(互补金属氧化物半导体)的场效应晶体管栅较等。